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RAPID_3D
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Module d’écriture rapide pour nanolithographie 3D

Acronyme

Année

Laboratoire

Collaboration(s)

Budget

Durée

RAPID_3D

2015

LPN / NanoFlu

LPQM, B2A

50 000k€

3 ans

 

Titre

Module d’écriture rapide pour nanolithographie 3D

Porteur

Gilgueng HWANG

Date de démarrage

Juin 2015

Présentation du projet

Ce projet a pour but la réalisation de nanostructures 3D sur de grandes surfaces par lithographie 3D laser à deux photons. Pour déplacer le voxel du faisceau dans les trois directions de l’espace, le système Nanoscribe, actuellement installé au LPN, est équipé d’un système de balayage qui utilise des actionneurs piézoélectriques. Si ceux-ci permettent une trajectoire précise, les temps d’insolation typiques sont de plusieurs heures pour des surfaces limitées à quelques centaines de microns. Nanoscribe vient de mettre au point un 2ème mode de balayage, où le faisceau laser est balayé dans le plan par des miroirs galvanométriques, tandis que le mouvement vertical reste commandé par des actionneurs piézo-électriques. Ce nouveau mode permet de réduire les temps d’écriture d’un facteur 100, ce qui permet de lithographier de grandes surfaces. Nous pourrions ainsi fabriquer de vrais canaux fluidiques avec des nanostructures intégrées, pour des applications en nanofluidique mais aussi en biologie (contrôle de la croissance et du développement neuronal pour la reconstruction de réseaux de neurones).

 
#92 - Màj : 20/03/2015

 

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